X射线光电子能谱仪

品牌： ULVAC-PHI   型号：PHI GENESIS 500

1.仪器用途

X射线光电子能谱仪(简称XPS),通过使用X射线入射固体样品表面并采集从样品表面产生的光电子，提供表面的元素成分、元素化学态信息。XPS的分析深度小于10nm，被广泛应用于分析无机化合物、合金、有机高分子化合物、能源电池材料、催化材料等，表征表面成分、表面缺陷(腐蚀，异物，污染，分布不均等)、表面多层薄膜等，对于各种材料开发，材料剖析与失效机理的分析和研究具有不可替代的作用。

2.结构和基本配置

仪器主体包含进样腔室、分析腔室。分析腔室能够维持超高真空环境，并预留有与样品台对准的扩展接口，可安装冷热台、UPS、IPES(LEIPS)、AES、REELS、双阳极、GCIB离子枪及其他激发源等实现多种技术联用。分析腔室配备单色化Al Ka X射线源系统、能量分析器、探测器、双束荷电中和系统、全自动五轴样品台、氩离子刻蚀枪以及仪器操控需要的计算机及软件系统。

3.联系人：

吴烈鑫  18202755138

王可  15200817516