卷对卷磁控溅射

品牌：邑文微电子   型号：Sino PVD RTR 500

1.仪器用途

用于实现真空薄膜制备；

2.主要技术指标

在基膜厚度4.0~10.0 um 聚丙烯膜表面镀膜后，基膜表面无热皱、无烫伤、无击穿、无断带；强光照射水电镀增厚基膜，强光照射下无人眼可见针孔（增厚1um）。

负责团队：极端环境能源材料与器件团队

联系人：郑勇杰  18729555075